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產品詳細介紹：可適用于高真空條件下對粉體材料的表面包覆鍍膜實驗(更新日期2019.1.11）產品型號振動樣品臺產品特點1、振動樣品臺安裝在真空腔體底部2、粉末放置于樣品臺上

產品簡介：微型PECVD系統采用?3"×16"的石英腔體，內部設有加熱圈對樣品進行加熱，溫度可以達到400℃，且采用程序化控溫，系統還配有2通道混氣裝置和雙旋機械泵，整套系統安放于移動架上，便于實驗操作

產品簡介：鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成

產品簡介：VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

產品簡介：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

產品簡介：OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發管式爐，專門用于PVD或CSS法制作薄膜