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型號:

1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統OTF-1200X-4-C4LV

描述:產品簡介:1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長薄膜而設計的,特別是應用在新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究

  • 廠商性質

    經銷商
  • 更新時間

    2024-03-12
  • 訪問量

    132
詳細介紹

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產品簡介: 1200℃雙管滑動式四通道混氣 CVD 系統 OTF-1200X-4-C4LV 是專門為在金屬箔表面生長薄膜 而設計的,特別是應用在新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。


產品型號

1200℃雙管滑動式四通道混氣 CVD 系統 OTF-1200X-4-C4LV

安裝條件

本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。


1、水:不需要


2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地


3、氣:設備腔室內需充注氣體,需自備氣瓶氣源


4、工作臺: 尺寸 1600mm×600mm×700mm ,承重 150kg 以上


5、通風裝置:需要

主要特點

1、采用高純氧化鋁保溫材料,保證了的溫度均勻性。


2 、內爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高反射率和保護爐膛潔凈度。


3 、采用 PID 控制器 ,可以設置 30 段升降溫程序。


4、金屬箔纏繞在內管的外表面上發生 CVD 反應。


5、采用雙管真空密封法蘭,允許反應氣體通過兩管之間( 10mm 間隙)。


6、冷卻氣體直接通入內管。





7 、配有帶 KF25 快接和波紋管的高速機械泵。


8、爐底部裝有滑軌,爐體可從一端滑向另一端, 從而實現快速升溫和降溫。為了獲得較快的 加熱速度, 可以先將爐體預熱, 然后滑至放置樣品處; 為了獲得較快的冷卻速度, 可將爐 體滑至另一端,同時將冷氣通入樣品所在處。


9、密封法蘭系統采用不銹鋼制作。


10 、已通過 CE 認證。

技術參數

管式爐


1 、電源: 單相 AC 208V-240V    50Hz/60Hz    2.5KW 20A 保險絲)


2、石英管: 外管外徑 ?100mm ,內徑 ?96mm ,長 1400mm


內管外徑 ?80mm ,內徑 ?75mm ,長 1400mm

3、加熱元件: 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲(表面涂有氧化鋯)


4、加熱區域: 440mm


5、恒溫區域: 120mm (± 1℃在 400-1100℃)


6 、工作溫度:  1100 ,連續工作 1000


7、升降溫速率: 20/min


8、控溫精度:± 1


9、真空度: 10-3torr (機械泵), 10-5torr  (分子泵)

質量流量混氣系統


1、質子流量計: 4 路精密質子流量計,數字顯示,氣體流量自動控制


MFC1 范圍 0-100sccmMFC2 范圍 0-200sccm,MFC3 范圍 0-200sccm,MFC1 范圍 0-500sccm

2、流量精度: 0.2%


3、氣路: 4 路(每個氣路都有一個獨立的不銹鋼針閥控制)


4、進出氣口: 1/4"卡套





5、混氣罐: 1 

產品規格

尺寸: 管式爐 550mm×380mm×520mm ,移動架 600mm×600mm×597mm


重量: 135kg

可選配件

1、分子泵


2、雙溫區管式爐


3、銅箔(生長石墨烯 150mm×150mm×25µm


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