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產品簡介: GSL-1100X-SPC-16-3 等離子三靶濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理(直流二極濺射鍍膜 是指在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應, 使得靶材原子或分子從固體表面射出, 在基片上沉 積形成薄膜的過程。屬于物理 氣相沉積(PVD)制備薄膜技術的一種。 )設計而成的簡單、可靠、經濟的 鍍膜設備。GSL-1100X-SPC-16-3 等離子三靶濺射儀特別之處是在一個真空室內安裝了三個靶,旋轉樣品臺 可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此, 適用于實驗室各種復合膜樣品的制備,以及非導體材料實驗電 極的制作。該設備體積小,節省實驗室空間,操作簡單,尤其適合實驗室使用。
產品名稱 | GSL-1100X-SPC-16-3 等離子三靶濺射儀 |
產品型號 | GSL-1100X-SPC-16-3 |
安裝條件 | 本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃, 濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水:不需要 2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度 99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥) 4、工作臺: 尺寸 600mm×600mm×700mm ,承重 50kg 以上 5、通風裝置:不需要 |
主要特點 | 1、設有真空表、濺射電流表,可實時監控工作狀態。 2、通過調節濺射電流控制器、微型真空氣閥,控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電 離氣體,以獲得好的鍍膜效果。 |
3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設計,可保證長期使用不出現玻璃鐘罩崩邊現象。 |
4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經久耐用。 5、根據電場中氣體電離特性,采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻 純凈。 | |||
6 、已通過 CE 認證。 | |||
技術參數 | 1、靶直徑: ?45mm 2、真空室: ?160mm×120mm 3、真空度:≤4×10-2mbar 4、靶位: 3 個 | ||
5 、max 電流: 50mA 6、可設定極間: 900s 7、微型真空氣閥: 連接 ?3mm 軟管 8、極限電壓: 1600V DC 9、機械泵: 2L/s | |||
標準配件 | 1 | 金靶材 | 1 個 |
2 | 銅靶材 | 1 個 | |
3 | 鋁靶材 | 1 個 | |
4 | 進氣針閥 | 1 個 | |
5 | 保險絲 | 2 個 | |
可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 |