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型號:

VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀

描述:產品簡介:VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀靶頭尺寸為2英寸,樣品臺與濺射頭之間的高度在30-80mm之間可以調節

  • 廠商性質

    經銷商
  • 更新時間

    2024-03-07
  • 訪問量

    295
詳細介紹

 

 

 

 

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產品簡介: VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀靶頭尺寸為2英寸, 樣品臺與濺射頭之間的高度在 30-80mm 之間可以調節。安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進行預濺射。濺射頭對樣品的濺射時間在1-120s 之間可調,若想獲得薄的薄膜,濺射時間可以設置短一點img4;若想獲得厚的薄膜,濺射時間可以長一點。VTC-16-D 小型直流磁控等離子濺射儀設計主要是制作一些金屬薄膜,制膜面積可達到4英寸。設備外 形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備,可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。

 

產品名稱

VTC-16-D 小型直流磁控等離子濺射儀

產品型號

VTC-16-D

 

 

主要特點

1 、特別為 SEM 樣品鍍導電性薄膜設計。

2、體積小巧,操作簡單,容易上手。

3、擁有小型磁控靶頭,可以鍍金銀鉑等金屬。

 

1、輸入電源: 220V AC 50/60Hz

2、功率: 200W

3、輸出電壓: 500 VDC

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

技術參數

4、濺射電流: 0-50 mA 可調

5、濺射時間: 0-120S 可調

6、濺射腔體

1)采用石英腔體,尺寸: 166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

2)密封: 采用不銹鋼平法蘭的 O 形密封圈

7、濺射頭&樣品臺

l)濺射頭可安裝靶材直徑為 2 英寸, 厚度 0.1 - 2.5mm

2)濺射時間 1-120S 可調

3)儀器中安裝有直徑為 50mm 的不銹鋼樣品臺, 其與濺射頭之間距離 30-80mm 可調。

4)可選購加熱型樣品臺,其加熱溫度可達 500℃

5)安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進行預濺射

6)制膜的直徑可達:4 英寸(僅供參考,詳情請點擊)

 

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8、真空系統

l)安裝有 KF25 真空接口 2)數字真空壓力表(Pa 3)此系統可通入氣體運行

4< 1.0E-2 Torr    (采用機械泵)

5< 1.0E-5 Torr  (采用渦旋分子泵)

9、進氣

l)設備上配 1/4 英寸進氣口,方便連接氣瓶

2)設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕,方便調節氣流

10、靶材

l)靶材尺寸要求: Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)

2)設備標配為銅靶

11、產品外型尺寸

L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

 

 

 

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