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產品簡介: VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀靶頭尺寸為2英寸, 樣品臺與濺射頭之間的高度在 30-80mm 之間可以調節。安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進行預濺射。濺射頭對樣品的濺射時間在1-120s 之間可調,若想獲得薄的薄膜,濺射時間可以設置短一點;若想獲得厚的薄膜,濺射時間可以長一點。VTC-16-D 小型直流磁控等離子濺射儀設計主要是制作一些金屬薄膜,制膜面積可達到4英寸。設備外 形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備,可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。
產品名稱 | VTC-16-D 小型直流磁控等離子濺射儀 |
產品型號 | VTC-16-D |
主要特點 | 1 、特別為 SEM 樣品鍍導電性薄膜設計。 2、體積小巧,操作簡單,容易上手。 3、擁有小型磁控靶頭,可以鍍金銀鉑等金屬。 |
| 1、輸入電源: 220V AC 50/60Hz 2、功率: 200W 3、輸出電壓: 500 VDC |
技術參數 | 5、濺射時間: 0-120S 可調 6、濺射腔體 1)采用石英腔體,尺寸: 166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 2)密封: 采用不銹鋼平法蘭的 O 形密封圈 7、濺射頭&樣品臺 l)濺射頭可安裝靶材直徑為 2 英寸, 厚度 0.1 - 2.5mm 2)濺射時間 1-120S 可調 3)儀器中安裝有直徑為 50mm 的不銹鋼樣品臺, 其與濺射頭之間距離 30-80mm 可調。 4)可選購加熱型樣品臺,其加熱溫度可達 500℃ 5)安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進行預濺射 6)制膜的直徑可達:4 英寸(僅供參考,詳情請點擊)
8、真空系統 l)安裝有 KF25 真空接口 2)數字真空壓力表(Pa) 3)此系統可通入氣體運行 4)< 1.0E-2 Torr (采用機械泵) 5)< 1.0E-5 Torr (采用渦旋分子泵) 9、進氣 l)設備上配 1/4 英寸進氣口,方便連接氣瓶 2)設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕,方便調節氣流 10、靶材 l)靶材尺寸要求: Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) 2)設備標配為銅靶 11、產品外型尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 540 mm |