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型號:

SE-L光譜橢偏儀03090804

描述:產品簡介:SE-L光譜橢偏儀是一款全自動高精度光譜橢偏儀,集眾多科技技術,采用行業前沿創新技術,配置全自動測量模塊

  • 廠商性質

    經銷商
  • 更新時間

    2024-03-07
  • 訪問量

    548
詳細介紹

 

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產品簡介: SE-L 光譜橢偏儀是一款全自動高精度光譜橢偏儀,集眾多科技技術,采用行業前沿創新技術,配置全自動測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量,快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析。SE-L 光譜橢偏儀廣泛應用于半導體薄膜結構:介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、 PZT 膜,激光二極管 GaN 和AlGaN、透明的電子器件、平板顯示、光伏太陽能、功能性涂料、生物和化學工程、塊狀材料分析等領域。

 

產品型號

SE-L 光譜橢偏儀

主要特點

1、高精度自動測量光學橢偏測量解決方案

 

2、全自動變角、調焦等控制平臺,一鍵快速測量

 

3、軟件交互式界面配合輔助向導式設計,易上手、操作便捷

 

4、豐富的數據庫和幾何結構模型庫,保證強大數據分析能力

 

5、采用氘燈和鹵素燈復合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍

(193-2500nm)

 

6、高精度旋轉補償器調制、 PCRSA 配置, 實現Psi/Delta光譜數據高速采

 

7、全自動橢偏測量技術,基于行業電機控制技術,全自動調整測量角

 

度,高精度控制樣件臺,實現樣件快速自動對準找焦

 

8、頤光技術確保在寬光譜范圍內,提供優質穩定的各波段光譜

 

9、數百種材料數據庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料

技術參數

1、自動化程度:自動變角

 

2、應用定位:自動型

 

3、基本功能: Psi/Delta、N/C/S、R/T 等光譜

 

4、分析光譜: 380-1000nm(可擴至 193-2500nm)

 

5、單次測量時間: 0.5-5s

 

6、重復性測量精度: 0.01nm

 

7、光斑大?。?/span> 大光斑 2-3mm,微光斑 200um

 

8、入射角調節方式:自動變角

 

9、入射角范圍: 45-90°

 

10、找焦方式:自動找焦

 

11、Mapping 行程: 支持 100x100mm(可選配)

 

12、支持樣件尺寸:  200mm

可選配置

波段選擇

 

V:380-1000nm

 

UV:245-1000nm

 

XN:210-1650nm

 

DN+:193-2500nm

角度選擇

 

自動:45-90°

 

其他選擇

 

Mapping 選擇:100×100mm(供參考,按需定制)

 

溫控臺:室溫一 600℃(供參考,按需定制)

可選配件

1

溫控臺

2

Mapping 擴展模塊

3

真空泵

4

透射吸附組件

 

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